Lithography lemes

SOFT LITHOGRAPHY mangrupa istilah anu digunakeun pikeun sababaraha prosés pikeun mindahkeun pola. A kapang master diperlukeun dina sagala hal sarta microfabricated ngagunakeun métode lithography baku. Ngagunakeun kapang master, urang ngahasilkeun hiji pola elastomeric / cap pikeun dipaké dina lithography lemes. Elastomer anu digunakeun pikeun tujuan ieu kedah kimia inert, gaduh stabilitas termal anu saé, kakuatan, daya tahan, sipat permukaan sareng higroskopis. Karét silikon sareng PDMS (Polydimethylsiloxane) mangrupikeun dua bahan calon anu saé. Perangko ieu tiasa dianggo sababaraha kali dina litografi lemes.

 

 

 

Salah sahiji variasi litografi lemes nyaéta PERCETAKAN MICROCONTACT. Perangko elastomer dilapis ku tinta sareng dipencet kana permukaan. Puncak pola ngahubungi permukaan sareng lapisan ipis sakitar 1 monolayer tinta ditransferkeun. Monolayer pilem ipis ieu tindakan minangka topéng pikeun etching baseuh selektif.

 

 

 

Variasi kadua nyaéta MICROTRANSFER MOLDING, dimana recesses kapang elastomer dieusian ku prékursor polimér cair sareng didorong kana permukaan. Sakali polimér cageur sanggeus microtransfer molding, urang mesek kaluar kapang, ninggalkeun balik pola nu dipikahoyong.

 

 

 

Panungtungan variasi katilu nyaéta MICROMOLDING IN KAPILARI, dimana pola cap elastomer diwangun ku saluran anu ngagunakeun gaya kapiler pikeun Wick polimér cair kana cap ti sisi na. Dasarna, sajumlah leutik polimér cair disimpen padeukeut sareng saluran kapilér sareng gaya kapilér narik cairan kana saluran. Kaleuwihan polimér cair dipiceun sareng polimér di jero saluran diidinan cageur. Kapang cap dikupas sareng produk parantos siap. Upami rasio aspék saluran sedeng sareng dimensi saluran anu diidinan gumantung kana cairan anu dianggo, réplikasi pola anu saé tiasa dipastikeun. Cairan anu digunakeun dina micromolding dina kapilér tiasa polimér thermosetting, sol-gél keramik atanapi suspensi padet dina pangleyur cair. The micromolding dina téhnik kapilér geus dipaké dina manufaktur sensor.

 

 

 

Lithography lemes dipaké pikeun ngawangun fitur diukur dina mikrométer ka skala nanometer. Lithography lemes boga kaunggulan leuwih bentuk litografi séjén kawas photolithography jeung electron beam litography. Kauntungannana kalebet ieu:

 

• ongkos Handap dina produksi masal ti photolithography tradisional

 

• Cocog jeung aplikasi dina biotéhnologi jeung éléktronika palastik

 

• Cocog jeung aplikasi ngalibetkeun badag atawa nonplanar (nonflat) surfaces

 

• Litografi lemes nawiskeun langkung seueur metode mindahkeun pola tibatan téknik litografi tradisional (langkung pilihan "tinta")

 

• Lithography lemes teu merlukeun beungeut poto-réaktif pikeun nyieun nanostructures

 

• Kalawan lithography lemes urang bisa ngahontal rinci leuwih leutik batan photolithography dina setélan laboratorium (~ 30 nm vs ~ 100 nm). Resolusina gumantung kana masker anu dianggo sareng tiasa ngahontal nilai dugi ka 6 nm.

 

 

 

MULTILAYER SOFT LITHOGRAPHY mangrupikeun prosés fabrikasi dimana kamar mikroskopis, saluran, klep sareng vias dibentuk dina lapisan kabeungkeut elastomer. Ngagunakeun alat lithography lemes multilayer diwangun ku sababaraha lapisan bisa dijieun tina bahan lemes. Lemes bahan ieu ngamungkinkeun wewengkon alat pikeun ngurangan leuwih ti dua ordo gedena dibandingkeun jeung alat basis silikon. Kaunggulan séjén tina lithography lemes, kayaning prototyping gancang, betah fabrikasi, sarta biocompatibility, oge valid dina multilayer lithography lemes. Kami nganggo téknik ieu pikeun ngawangun sistem mikrofluida aktip kalayan klep on-off, klep switching, sareng pompa kaluar tina elastomer.